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产品特性：
镭射亮度均匀，版面洁净度高；
适烫性广，兼容性好；
透明度高；
大小面积兼容；
附着力好
基膜厚度：12μ
烫印温度：平压平 120-145℃
烫印时间（秒）：随机
烫印速度：平压平 5000~6500 张 / 小时
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